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KEP-2000 電解拋光腐蝕儀控制器新升級(jí) 發(fā)布時(shí)間：2025-03-31

1．KEP-2000電解拋光腐蝕儀新升級(jí)觸摸屏界面，外形美觀上檔次，替代繁瑣按鍵操作，適應(yīng)現(xiàn)代設(shè)備便捷化要求;2．寬電源供應(yīng)電壓范圍，較前代產(chǎn)品升級(jí)5%，避免電壓不穩(wěn)對(duì)設(shè)備影響;3．精度更高:電壓精度小數(shù)點(diǎn)后兩位，電流精度小數(shù)點(diǎn)后三位。4．電壓、電流范圍大，可同時(shí)滿(mǎn)足各種材料的拋...

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2023
11-9

激光粒度儀的日常維護(hù)及應(yīng)用領(lǐng)域
激光粒度儀的應(yīng)用領(lǐng)域：建材、化工、冶金、能源、食品、電子、地質(zhì)、航空航天、機(jī)械、高校、實(shí)驗(yàn)室，研究機(jī)構(gòu)等。激光粒度儀儀器的日常維護(hù)：1、儀器的全套設(shè)備不論是否處于工作狀態(tài)，都應(yīng)放置在清潔干燥的環(huán)境中。2、粒度儀的全套設(shè)備不用時(shí)應(yīng)蓋上致密的防...
2023
10-25

電解拋光腐蝕儀的工藝參數(shù)優(yōu)化及其對(duì)表面質(zhì)量的影響
隨著工業(yè)技術(shù)的不斷發(fā)展，電解拋光腐蝕儀在金屬表面處理領(lǐng)域的應(yīng)用越來(lái)越廣泛。然而，如何優(yōu)化其工藝參數(shù)以獲得更好的表面質(zhì)量仍是一個(gè)亟待解決的問(wèn)題。本文將探討該儀器的工藝參數(shù)優(yōu)化及其對(duì)表面質(zhì)量的影響。電解拋光腐蝕儀的主要工藝參數(shù)包括電壓、電流密度...
2023
9-19

學(xué)習(xí)晶間腐蝕儀的使用和操作
KJF-4GW晶間腐蝕儀是應(yīng)用于不銹鋼的晶間腐蝕的設(shè)備，可用于檢驗(yàn)各種類(lèi)型的不銹鋼、鋁合金等材料在特定的腐蝕條件下晶間腐蝕的狀況，從而判定材料的化學(xué)成分、熱處理和加工工藝是否合理。晶間腐蝕是金屬局部腐蝕的一種，沿著金屬晶粒間的分界面向內(nèi)部擴(kuò)...
2023
9-8

電解拋光腐蝕儀如何解決加工過(guò)程中的電極選擇問(wèn)題？
電解拋光腐蝕儀是一種常用于材料表面處理的設(shè)備，它可以通過(guò)電化學(xué)方法去除材料表面的氧化層、腐蝕物和污染物，從而得到光潔度高、表面質(zhì)量好的材料。在電解拋光腐蝕過(guò)程中，電極的選擇對(duì)于加工效果至關(guān)重要。本文將探討電解拋光腐蝕儀如何解決加工過(guò)程中的電...
2023
8-11

抗壓試驗(yàn)機(jī)在日常維護(hù)中需要注意哪些
HM-C抗壓試驗(yàn)機(jī)是霍伊特Pro系列的一部分，其標(biāo)稱(chēng)試驗(yàn)力在10至30kN之間。4個(gè)高精度測(cè)力傳感器，可保證該機(jī)在整個(gè)測(cè)量范圍內(nèi)具有較高的測(cè)量精度。每臺(tái)機(jī)器均包含霍伊特的HoyWin測(cè)試控制軟件以及定制設(shè)計(jì)的電子系統(tǒng)。通過(guò)一個(gè)簡(jiǎn)單直觀的界面...
2023
8-7

端淬機(jī)的安全操作流程和防護(hù)措施有哪些？
端淬機(jī)是一種用于金屬加工的設(shè)備，它在工業(yè)生產(chǎn)中扮演著重要的角色。然而，由于其操作涉及高溫、高壓和機(jī)械運(yùn)動(dòng)等危險(xiǎn)因素，必須遵循嚴(yán)格的安全操作流程和采取有效的防護(hù)措施。以下是該設(shè)備的安全操作流程和防護(hù)措施，以確保工作人員的安全。1.了解設(shè)備：在...

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